Provocarea și Soluția
Un client din industria semiconductorilor necesita o sală curată (cleanroom) de clasă ISO 3 pentru fabricarea de wafer-uri de siliciu de 300 mm. Provocarea principală a fost menținerea unui nivel sub 1.000 de particule pe metru cub (≥0.1 µm) în timp ce se gestionează căldura generată de echipamentele de litografie și gravare cu fascicul de ioni. Soluția Mill-Ion-Air a constat într-un sistem hibrid cu flux laminar vertical, integrat cu filtre HEPA/ULPA de înaltă eficiență și o unitate de condiționare dedicată care menține umiditatea la 45% ±2%. Am proiectat conducte speciale cu materiale anti-static pentru a minimiza acumularea de particule și am implementat senzori în timp real pentru monitorizarea continuă a calității aerului.
Rezultate și Impact
După implementare, sala a atins și a menținut în mod constant standardul ISO Clasa 3, cu citiri ale particulelor sub 800/m³. Sistemul a redus rata de defecte a wafer-urilor cu 22% datorită unui mediu controlat superior. Eficiența energetică a instalației a crescut cu 18% prin recircularea inteligentă a aerului și recuperarea căldurii. Proiectul a stabilit un nou benchmark pentru fabricanții locali și a deschis oportunități pentru contracte similare în domeniul farmaceutic de înaltă precizie. Clientul a raportat o reducere semnificativă a timpilor de oprire pentru întreținere.
