Sistem de Ventilație Clasa ISO 3 pentru Fabricație de Wafer-uri

Fabrica de Semiconductori AdvancedChip SRL · 2023

Proiectul a constat în proiectarea și implementarea unui sistem integrat de ventilație și control al particulelor pentru o cameră curată de clasă ISO 3, destinată procesului de gravare cu fascicul de ioni (Ion Milling) a wafer-urilor de siliciu. Sarcina principală a fost atingerea și menținerea unui nivel de particule sub 1.000 pe metru cub pentru particule ≥0.1µm, în condiții de umiditate controlată (45% ±3%). Soluția Mill-Ion-Air a integrat filtre HEPA ULPA de ultimă generație, unități de tratare a aerului cu recuperare de căldură și un sistem de monitorizare în timp real, asigurând un mediu stabil pentru microfabricarea de înaltă precizie și reducând rata de rebuturi cu 99.7%.